口水淹没的档口。 一则来自苏北华芯的官方公告,却如同一声春雷,将所有浅薄的娱乐喧嚣震得粉碎。 华芯官方宣布: 经过皓锋集团与金陵大学联合研究院不眠不休的刻苦攻关,我国在半导体核心原材料领域取得了历史性的重大突破! 成功研发出了拥有自主知识产权的ArF氟化氩浸没式光刻胶! 并且,金陵的科研团队一举攻克了行业公认的壁垒: 正胶负显影PTD工艺! 这几个专业而生涩的学术名词,对于普通大众而言或许如同天书。 但公告最后用红字标注的那行总结,却让每一个东大人都看懂了它那沉甸甸的含金量: 【该工艺的突破,意味着我国自主研发的国产芯片,自此拥有了向14纳米先进制程芯片发起冲击的资格...